Магнетронные источники

Описание

Компания Mantis Deposition предлагает серию сверхвысоковакуумных магнетронных источников распыления, предназначенных для напыления различных материалов. Серия CUSP используется главным образом для распыления магнитных и немагнитных материалов и формирования тонких и чистых пленок.

Все источники серии оснащены встроенной подачей рабочего газа, обеспечивающей более высокое локальное давление непосредственно вблизи распыляемой мишени, по сравнению с окружающей камерой. Таким образом, источники могут работать при более низком базовом давлении.
 
Все источники изготовлены из материалов совместимых со сверхвысоким вакуумом и могут выдержать вакуумный отжиг до 250°С. Также они имеют эффективно заземленную систему водяного охлаждения, в которой источник водоснабжения исключен из прямого контакта с высоким напряжением. Это дает возможность пользоваться обычной водопроводной водой.
 
Возможно использование различной конфигурации магнитов, как сбалансированные, так и несбалансированные. Все магнетронные источники CUSP-серии отлично подходят для работы в режимах постоянного, импульсного, высокочастотного и высокомощного импульсного (HIPIMS) распыления. Для заказа доступны магнетронные источники с диаметром мишени от 1" до 4".
 
Применения

• Физические методы осаждения пленок
• Металлизация
• Наноструктурированные пленки
• Многослойное осаждение
• Реактивное магнетронное распыление

Технические характеристики

Модель	CUSP-1iU	CUSP-2iU	CUSP-3iU
Монтажный фланец	NW63CF	NW100CF	NW100CF
Диаметр мишени	1" (25мм)	2" (50мм)	3" (75мм)
Макс. толщина мишени	4мм	6мм	6мм
Диаметр в вакууме	60мм	70мм	96мм
Длина в вакууме	от 150мм до 400мм	от 150мм до 400мм	от 150мм до 400мм
Минимальное охлаждение	Вода 0,5 л/мин	Вода 0,5 л/мин	Вода 0,5 л/мин